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单温区滑杆式PECVD系统

描述:单温区滑杆式PECVD系统由滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。单温区滑竿式PECVD系统相对于CVD系统增加了等离子发生器

更新时间:2022-12-05
产品型号:HGSK2-10-12DZ-PECVD
厂商性质:生产厂家
访问次数:367
详情介绍
品牌其他品牌升温速度(达到最高温)60min
内部尺寸φ100mm加热方式合金电阻丝
最大功率3500W控温精度±1℃℃
最高温度1200℃价格区间面议
仪器种类管式炉产地类别国产
应用领域环保,化工,生物产业,制药

单温区滑杆式PECVD系统

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一、PECVD系统组成:

单温区滑杆式PECVD系统由滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。


二、系统特点:

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态

2PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

4单温区滑杆式PECVD系统比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高

5、广泛应用于:各种薄膜的生长


三、系统组成

1HGSK2-10-12DZ单温区滑竿式管式炉

1.1、炉管尺寸:φ100*1800mm

1.2、炉管材质:石英玻璃

1.3、外型尺寸:1800*460*660mm

1.4、温区数量:单温区

1.5、设计温度:1200

1.6、电源功率:AV200V\50Hz3.5kw

1.7、滑轨材质:不锈钢

1.8、滑动方式:手动不锈钢滚珠轴承

1.9、控温仪表:智能30段程序控温仪表

1.10、控温精度:±1

1.11、加热区长度:400mm

1.12、控制方式:可控硅触发控制

1.13、热电偶:K

1.14、安全措施:超温、过压、过流

1.15、真空密封:不锈钢法兰

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2、射频电源(等离子发生器)

2.1、功率范围:0-500w

2.2、最大发射功率:200w

2.3、射频宽度:0-600mm

2.4、射频接口:50Ω N-TYPE

2.5、射频工作频率:13.56MHZ

2.6、电源:AC220v50Hz

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3、供气系统

3.1、双路质子流量供气系统

3.2、质子流量计流量范围可选

3.3、进出气接口:标配双卡套不锈钢接头

3.4、供气系统压力范围:0.1-0.5MPa

3.5、混气室:φ50*400mm

3.6、接口规格:φ6  1/4"

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4、真空抽气系统

4.1、真空泵FX-16

4.1.1、极限压强:4*10-2Pa

4.1.2、进气接口:KF25

4.1.3、电机转速:1440RPM

4.1.4、抽气速率:4L/S

4.1.5、电机功率:550w

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4.2、电阻真空计ZDR-1

4.2.1、功率:25w

4.2.2、真空度范围:0.1-10*5Pa

4.2.3、电阻硅:ZJ-52T

 

HGSK2-10-12DZ-PECVD单温区滑竿式PECVD系统配置:

单温区滑竿式管式炉一台、射频电源一套、两路质子流量供气系统一套、抽真空系统一套


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